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电子港。

山海微电芯片研发中心。

“吴哥,你说公司会给咱们什么奖励啊?这可是16纳米的工艺,湾积电也是刚刚才推出来。”

谢盛东推了推身旁的同事,一脸激动道。

二十多岁的年纪,眼神清澈,面孔稚嫩,完全看不出来,这是一位优秀杰出的材料学专家。

“升职加薪呗,员工合同里不是写的清清楚楚吗?”

吴茂哲抬眼看向谢盛东,恹恹回答道,全然一副提不起精神的模样。

起初,吴茂哲刚进研发中心,面对愈发复杂精密的EDA软件、仿真工具、光刻技术和材料工程时,心中极为不适,充满着陌生感。

甚至一度想直接放弃。

只是每当想起母亲之际,他又咬着牙重新振作起来,选择自己最擅长的晶体管结构优化方向,整天埋头苦干,全身心投入到工作中。

在对山海微电的技术文档梳理后,他敏锐发现,要想缩小芯片工艺的制程节点,就得突破四大技术难题:

多重曝光和刻蚀技术!

绝缘层和电极材料!

多分支晶体管布局!

三维集成电路技术!

第一点,能使用专业的曝光机器、刻蚀设备代替;

第二点、需要一位纳米材料学高手,熟知高介电常数材料的特性,并可以完美掌握合成和应用这些材料的技术;

第三点、他决定从鳍状场效应晶体管结构入手,去提升电流控制能力、降低漏电流、加快开关速度,增强芯片的集成度和性能;

第四点、山海微电原本就拥有成熟的三维封装技术(3DIC)!

所以,只要能打破材料和晶体管结构的技术壁垒,就能在短时间内,进一步改进芯片工艺。

事实证明,他赌对了!

16纳米的工艺制程,沿着正确道路,被其轻松捣腾了出来,当年他在MVIDIA都没有取得过如此惊人的科研成果。

当然,这一切离不开谢盛东的帮助,是他大胆采用硅酸盐作为绝缘层材料、多晶硅作为电极材料,大大提高了电子迁移率。

配合三维晶体管结构设计,为芯片尺寸的缩小提供了可能性。

“那你为啥绷着一张脸,升职加薪还不值得庆祝吗?”

谢盛东疑惑道。

“因为……算啦,你不懂。”

吴茂哲欲言又止,对方并不知道,他之所以

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